超构器件的加工方法一般有直写刻蚀、图案转移刻蚀和混合图案刻蚀三类。通过不同加工方式产生的结构图案具有不同的技术特点。在选取加工技术的过程中，需要充分考虑加工面积、制造成本、加工精度、时间成本、适用材料范围等因素，以选取适宜的加工方法。

直写刻蚀技术是一种不需要掩膜的技术，如图1（a）所示。直写刻蚀技术使用电子束、离子束、探针或者是激光等直接在光刻胶上写入图案。在加工精细结构时，往往需要短波长光源，使用直写技术能有效避免短波长光源对透镜和掩膜造成损坏。基于电子束这样的直写刻蚀工艺通常能获得高分辨率、高质量的图案，但也会受邻近效应的影响，存在成本高、加工时间长的问题。其他直写刻蚀技术也有其相应的技术特点，需要充分考虑其适用范围。

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纳米压印是图案转移刻蚀技术的一种，如图1（b）所示，其通过机械变形来实现对微纳结构的复制。将带有微纳结构的压印模板压制到基板上，再通过加热等手段（热纳米压印）使涂敷在基板上的聚合物固化，便实现了图案转移的过程。纳米压印技术可以实现大面积超构表面的制造，同时具有高通量、适用于大规模制造的优点。但在加工之前需要首先获得高精度制造的压印模板，去除残留层的过程中也不可避免地会降低图案精度。

微球投影刻蚀技术将不同的刻蚀方法结合起来，可以实现更复杂的微纳结构的加工。该技术利用自组装形成二氧化硅小球阵列，使小球充当胶体微透镜，将大尺寸掩膜的图案投射到基板上，实现图案的加工，如图1（c）所示。该方法能加工结构特征在0.4~10 μm之间的结构，符合超构表面研究的加工需求。其成本低，制造速度快，可以满足研究上需要快速验证理论的需求。

光刻作为最广泛应用的半导体微电子加工技术，亦可用于超构表面的加工。图1（d）给出用深紫外投影光刻技术制造超构表面的流程图，目前已经出现用光刻制造的厘米级光学超构透镜。光刻提供了另一种大面积大批量生产超构器件的方法，但DUV存在分辨率较低，且成本较高的缺点。

超构表面对光出色的调制能力赋予其广泛的应用潜力。目前已经出现了很多将超构透镜应用于成像的研究，如图2所示。由于许多组成超构表面的纳米天线自身即是偏振敏感的，故超构透镜可直接用于偏振成像，而不需要复杂的光学组件。受复眼的启发，利用超构透镜组成阵列，可以实现光场成像，能够获取物体深度、速度等多维光场信息。超构表面紧凑轻薄的特性也使得其在生物医疗领域有较高的应用价值。无论是内窥镜成像、荧光成像还是激光手术，超构表面均在其中发挥作用。